相位掩模版
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相位掩膜版(Phase Mask)是刻寫光纖光柵(Fiber Bragg Grating, FBG)的核心工具,其通過干涉原理將周期性結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到光纖纖芯中,形成折射率調(diào)制,從而制作我們需要的光纖光柵...
我們生產(chǎn)的型號為OEPMP-100的相位掩模版長度可達(dá)150毫米,用于光纖布拉格光柵的制作。我們的相位掩模產(chǎn)品包括均勻的,啁啾的,相移的,長相位掩模和樣品相位掩模,在DWDM濾波器,光纖傳感器,色散補(bǔ)償,增益平坦,激光二極管穩(wěn)定器,波導(dǎo)等方面應(yīng)用。我們的產(chǎn)品覆蓋范圍從300nm到5000nm的光柵周期。我們獨特的制造技術(shù)保證了超高的精度周期,非常低的零階和非常高的均勻性,可與全息相位掩模相媲美
相位掩模版的類型:
多陣列相位掩模版: 用于DWDM光纖光柵,光柵陣列的制作
多相移相位掩模版: 在一個單相掩模中,最多可以實現(xiàn)300個相移
多位置相位掩模版: 用于傳感器,波導(dǎo)和多波長光纖光柵的制造
長相位掩模版: 各種類型的相位掩模版長度可達(dá)150mm
啁啾相位掩模版: 用于線性啁啾,非線性啁啾及正弦啁啾光纖光柵的制作
不同照明波長: 248 nm, 193 nm, 530 nm, 800 nm…
特征:
周期的精密度可達(dá) 1pm
零級 < 5%
長度可達(dá) 150mm
最小周期可達(dá)100nm
均勻的,啁啾的和相移的
對193 nm, 244 nm, 248 nm, 266 nm, 365 nm, 530 nm, 800 nm的光照進(jìn)行優(yōu)化
低價格
相位掩模版的新產(chǎn)品:
1.多相位掩模陣列用于制作4通道、8通道或16通道的DWDM光纖光柵,無需改變相位掩模。 它們在一個基板上具有不同周期的 2、4、8、16 個相位掩模。 多相掩模陣列使光纖光柵制造的設(shè)備非常簡單。在不改變相位掩模的情況下,可以在一個設(shè)備中制作光纖光柵濾波器的 4 到 16 個通道。在寫入大量光柵時,這種方法可以節(jié)省時間和金錢。 當(dāng)在單根光纖中寫入多個不同波長的光柵時,它特別有用。
2. 多相移相位掩膜是一種具有多達(dá) 200 個相移的相位掩模。 它為光纖工程師提供了極大的相位掩模設(shè)計自由度。 多相移掩模可以與啁啾相位掩模和均勻相位掩?;蛏踔羶烧叩慕M合結(jié)合。
3.多位置相位掩模是具有水平方向、垂直方向或兩者相結(jié)合的相位掩模陣列。例如,如果陣列的每個光纖布拉格光柵都需要在光纖上進(jìn)行高精度定位,則多位置相位掩??梢越鉀Q每個相位掩模與光纖之間的對準(zhǔn)問題,并為您提供最佳解決方案。 如果您想制造多波長光纖激光器,多位置相位掩模還可以使您在此光纖激光器制造過程中的工作更加輕松。
產(chǎn)品型號: OEPMP-100
圖1. 用于光纖光柵制作的不同長度的相位掩模版
本產(chǎn)品為代售產(chǎn)品,由O-Eland 公司生產(chǎn).
有需求請聯(lián)系:
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